| 标题 |
 Atomic layer deposited Mo2N thin films using Mo(CO)6 and NH3 plasma as a Cu diffusion barrier 相关领域
材料科学
扩散阻挡层
薄膜
退火（玻璃）
原子层沉积
钼
分析化学（期刊）
电阻率和电导率
氮化物
微晶
图层（电子）
冶金
复合材料
纳米技术
化学
色谱法
工程类
电气工程
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Journal of Alloys and Compounds 作者：Yonghwan Joo; Dip K. Nandi; Rahul Ramesh; Yujin Jang; Jong‐Seong Bae; et al 出版日期：2020-12-16 |
| 求助人 | |
| 下载 | |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
cdercder
v0id
DOC_XIONG
无极微光
渡人舟
dde
GingerF
xing_xing
七听
zack6119
Criminology34
呵呵呵
神勇映雁
共产主义战士
李蕙芯
OK
牧青
Nole
殷勤的紫槐
sagitar
皖公网安备34019202002308
