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 Vertical sidewall of silicon nitride mask and smooth surface of etched-silicon simultaneously obtained using CHF3/O2 inductively coupled plasma 相关领域
氮化硅
蚀刻（微加工）
感应耦合等离子体
材料科学
表面粗糙度
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硅
干法蚀刻
光电子学
表面光洁度
体积流量
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期刊：Vacuum 作者：Jiabao Sun; Zhengyang Chen; Shiqi Zhou; Yijun Sun; Zhi Liu; et al 出版日期：2022-11-03 |
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