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标题
A study of the mechanism of the growth and shrinkage of stacking fault tetrahedra using the fluctuation of their size under electron irradiation
利用电子辐照下层错四面体尺寸的起伏研究层错四面体的生长和收缩机制
相关领域
四面体 叠加断层 收缩率 堆积 材料科学 辐照 电子 机制（生物学） 复合材料 结晶学 化学 核磁共振 位错 物理 核物理学 量子力学
网址
https://doi.org/10.1093/jmicro/51.supplement.s225
DOI
10.1093/jmicro/51.supplement.s225 doi
其它 期刊：Journal of Electron Microscopy
作者：Kazuto Arakawa; Shigeo Arai; Hiroshi Orihara; K. Ono; Michio Kiritani
出版日期：2002-03-27
求助人
呼初南 在 2025-12-21 18:03:02 发布自内蒙古，悬赏 10 积分
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