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Nanometer-thick TiO2 channel thin film transistors as radical monitors for plasma enhanced atomic layer deposition
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网址
http://dx.doi.org/10.1116/6.0003981
DOI
10.1116/6.0003981 doi
其它 期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films
作者：K. Yamano; Hibiki Takeda; Ryo Miyazawa; Masanori Miura; Bashir Ahmmad; et al
出版日期：2024-11-13
求助人
追风筝的人 在 2026-01-06 07:17:53 发布自中国台湾，悬赏 10 积分
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