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 Single‐Step Production of Doubly Re‐entrant Microstructures Through Reaction‐Diffusion Photolithography for Omniphobic Surfaces 全恐表面反应扩散光刻单步制备双凹痕微结构
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期刊：Small 作者：Hyungdae Bae; Jong Bin Kim; Hwan‐Young Lee; Shin‐Hyun Kim 出版日期：2025-01-23 |
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