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Synthesis, Properties and Aging of ICP-CVD SiCxNy:H Films Formed from Tetramethyldisilazane 四甲基二硅氮烷ICP-CVD SiCxNy:H薄膜的合成、性能及老化
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期刊:Coatings 作者:M. N. Chagin; V. S. Sulyaeva; Vladimir R. Shayapov; Aleksey N. Kolodin; M. N. Khomyakov; et al 出版日期:2022-01-11 |
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