Modelling and simulation of selective Si3N4 etching in 3D NAND structures

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标题	Modelling and simulation of selective Si3N4 etching in 3D NAND structures
网址	https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S000925092...
DOI	10.1016/j.ces.2026.123473 doi
其它	期刊：Chemical Engineering Science 作者：Daoming Yang; Lei Zhou; Shuangyu Hao; Guanghua Ye; Xinggui Zhou 出版日期：2026-01-29
求助人	mrp 在 2026-09-07 20:02:55 发布自湖北，悬赏 10 积分
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