| 标题 |
 Study of the poly/epi kinetic ratio in SiH4 based chemistry for new CMOS architectures 用于新型CMOS结构的SiH4基化学中poly/epi动力学比的研究
相关领域
硅烷
分压
材料科学
化学气相沉积
无定形固体
增长率
硅烷
托尔
微晶
表面粗糙度
非晶硅
热分解
硅
化学工程
分析化学（期刊）
纳米技术
晶体硅
复合材料
冶金
结晶学
热力学
化学
有机化学
几何学
数学
物理
氧气
工程类
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Materials Science in Semiconductor Processing 作者：A. Talbot; Julien Arcamone; C. Fellous; Florence Deleglise; D. Dutartre 出版日期：2005-01-15 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
无极微光
Criminology34
Jared
Twonej
Hayat
eric888
spc68
lalala
山野下
wanci
香蕉诗蕊
浮游
pluto
专注的问寒
芳菲依旧
带头大哥
asdfzxcv
dew
Andy_Cheung
pcr163
小郭子
子车茗
yznfly
小乔
皖公网安备34019202002308
