Transistors Featuring Atomic-Scale CMOS-Compatible Ferroic HfO2-ZrO2 Gate Stack for Next-Generation Computing Technologies

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标题	[高分] 学位论文 Transistors Featuring Atomic-Scale CMOS-Compatible Ferroic HfO2-ZrO2 Gate Stack for Next-Generation Computing Technologies 用于下一代计算技术的具有原子级CMOS兼容铁HfO2-ZrO2栅极堆叠的晶体管
网址	求助人暂未提供
DOI	暂未提供，该求助的时间将会延长，查看原因？
其它	加州大学伯克利分校的博士论文，可能需要校内资源才行
求助人	YiAn-horizon 在 2025-05-09 10:23:26 发布自山东，悬赏 50 积分
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