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标题
A comparison of mechanical lapping versus chemical-assisted mechanical polishing and planarization of chemical vapor deposited (CVD) diamond
化学气相沉积（CVD）金刚石的机械研磨与化学辅助机械抛光和平面化的比较
相关领域
化学机械平面化 研磨 抛光 钻石 材料科学 泥浆 磨料 化学气相沉积 冶金 复合材料 纳米技术
网址
https://doi.org/10.1016/s0925-9635(99)00091-6
DOI
10.1016/s0925-9635(99)00091-6 doi
其它 期刊：Diamond and Related Materials
作者：C.D. Ollison; W.D. Brown; Ajay P. Malshe; Hameed A. Naseem; Simon S. Ang
出版日期：1999-06-01
求助人
JXH2000 在 2025-06-24 17:02:00 发布自福建，悬赏 10 积分
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