A study on the resist performance of inorganic-organic resist materials for EUV and electron-beam lithography

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标题	A study on the resist performance of inorganic-organic resist materials for EUV and electron-beam lithography 极紫外和电子束光刻用无机-有机抗蚀剂材料的抗蚀性能研究相关领域抵抗极紫外光刻平版印刷术电子束光刻材料科学纳米技术光电子学图层（电子）
网址	https://doi.org/10.35848/1347-4065/ad38c5
DOI	10.35848/1347-4065/ad38c5 doi
其它	期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Hiroki Yamamoto; Yuko Tsutsui Ito; Kazumasa Okamoto; Shuhei Shimoda; Takahiro Kozawa 出版日期：2024-03-28
求助人	青红造了个白在 2025-11-29 02:12:06 发布自广东，悬赏 10 积分
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