Plasma-Enhanced Passivation of a Cu/Ti Bilayer Gate Electrode for an Amorphous Silicon Thin-Film Transistor

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标题	Plasma-Enhanced Passivation of a Cu/Ti Bilayer Gate Electrode for an Amorphous Silicon Thin-Film Transistor 非晶硅薄膜晶体管Cu/Ti双层栅电极的等离子体增强钝化相关领域材料科学钝化双层非晶硅光电子学硅晶体管薄膜晶体管电极无定形固体纳米技术晶体硅图层（电子）电压电气工程结晶学膜化学物理化学工程类生物化学
网址	https://doi.org/10.3938/jkps.54.1811
DOI	10.3938/jkps.54.1811 doi
其它	期刊：Journal of the Korean Physical Society 作者：Tzy-Yan Hong; H. J. Park; D. M. Han; Kyunghoon Jeong; J. G. Lee; et al 出版日期：2009-05-15
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