| 标题 |
Growth of Cu2O thin films with high hole mobility by introducing a low-temperature buffer layer 引入低温缓冲层生长高空穴迁移率Cu2O薄膜
相关领域
薄膜
激光线宽
缓冲器(光纤)
图层(电子)
衍射
分析化学(期刊)
材料科学
平坦度(宇宙学)
溅射沉积
薄层
溅射
化学
光学
复合材料
纳米技术
电气工程
物理
工程类
量子力学
激光器
色谱法
宇宙学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Journal of Crystal Growth 作者:B.S. Li; K. Akimoto; A. Shen 出版日期:2008-11-21 |
| 求助人 | |
| 下载 | |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)