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标题
Topographical selective deposition: A comparison between plasma-enhanced atomic layer deposition/sputtering and plasma-enhanced atomic layer deposition/quasi-atomic layer etching approaches
网址
https://doi.org/10.1116/6.0000969
DOI
10.1116/6.0000969 doi
其它 期刊：Journal of vacuum science & technology
作者：Moustapha Jaffal; Taguhi Yeghoyan; Gauthier Lefèvre; R. Gassilloud; N. Possémé; et al
出版日期：2021-03-24
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valorain 在 2026-08-24 16:39:17 发布自上海，悬赏 10 积分
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