Mechanism for the increase of indium-tin-oxide work function by O2 inductively coupled plasma treatment

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标题	Mechanism for the increase of indium-tin-oxide work function by O2 inductively coupled plasma treatment
网址	https://doi.org/10.1063/1.1633351
DOI	10.1063/1.1633351 doi
其它	期刊：Journal of Applied Physics 作者：Kwang Ho Lee; Ho Won Jang; Ki-Beom Kim; Yoon-Heung Tak; Jong-Lam Lee 出版日期：2004
求助人	怕孤单的镜子在 2026-04-02 14:01:08 发布自北京，悬赏 10 积分
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