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  Xenon plasma-focused ion beam milling for fabrication of high-purity, bright single-photon sources operating in the C-band 氙等离子体聚焦离子束铣削用于制造高纯度、高亮度C波段单光子源
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期刊：Optics Express 作者：Maciej Jaworski; Paweł Mrowiński; Marek Burakowski; Paweł Holewa; Laura Zeidler; et al 出版日期：2024-09-19 |
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