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Plasma-enhanced atomic layer deposition of silicon nitride thin films with different substrate biasing using Diiodosilane precursor |
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期刊:Materials Science in Semiconductor Processing 作者:Mohammed Zeghouane; Gauthier Lefèvre; S. Labau; Mohammed-Bilal Hachemi; F. Bassani; et al 出版日期:2024-08-30 |
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