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 Material removal on silicon towards atomic and close-to-atomic scale by infrared femtosecond laser 红外飞秒激光对硅原子级和近原子级材料的去除
相关领域
材料科学
等离子体
激光器
通量
飞秒
烧蚀
硅
撞击坑
激光烧蚀
反冲
电离
原子物理学
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物理
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期刊：Materials Science in Semiconductor Processing 作者：Haojie An; Jinshi Wang; Fengzhou Fang 出版日期：2023-05-01 |
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