Vertically tailored hybrid multilayer EUV photoresist with vertical molecular wire structure

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标题	Vertically tailored hybrid multilayer EUV photoresist with vertical molecular wire structure 具有垂直分子线结构的垂直定制混合多层EUV光致抗蚀剂相关领域光刻胶极紫外光刻材料科学光电子学光学纳米技术物理图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1117/12.3009753
DOI	10.1117/12.3009753 doi
其它	期刊：作者：Myung Mo Sung; Hyeonseok Ji; Jaehyuk Lee; Jinho Ahn; Chang Gyoun Kim; et al 出版日期：2024-04-09
求助人	李露露在 2025-05-17 06:35:43 发布自美国，悬赏 20 积分
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