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 Accurate mask model implementation in optical proximity correction model for 14-nm nodes and beyond 相关领域
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期刊：Journal of Micro/Nanolithography MEMS and MOEMS 作者：Nacer Zine El Abidine; Frank Sundermann; Emek Yesilada; Vincent Farys; Frederic Huguennet; et al 出版日期：2016-04-27 |
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