Impact of Gatelength on the Performance of InGaAs/InAs/InGaAs Composite Channel Dual Material Double Gate-High Electron Mobility Transistor Devices for High-Frequency Applications

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标题	[高分] Impact of Gatelength on the Performance of InGaAs/InAs/InGaAs Composite Channel Dual Material Double Gate-High Electron Mobility Transistor Devices for High-Frequency Applications 相关领域光电子学材料科学频道（广播）晶体管感应高电子迁移率晶体管对偶（语法数字）电子迁移率高电子迁移率晶体管电气工程工程类电压文学类艺术
网址	https://doi.org/10.1166/jno.2017.2139
DOI	10.1166/jno.2017.2139 doi
其它	期刊：Journal of Nanoelectronics and Optoelectronics 作者：S Nagarajan; Reeba Korah; G. Maria Kalavathy 出版日期：2017-12-01
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