Sensitizers in extreme ultraviolet chemically amplified resists: mechanism of sensitivity improvement

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标题	Sensitizers in extreme ultraviolet chemically amplified resists: mechanism of sensitivity improvement
网址	https://doi.org/10.1117/1.JMM.17.4.043506
DOI	10.1117/1.JMM.17.4.043506 doi
其它	期刊：Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS 作者：Yannick Vesters; Jing Jiang; Hiroki Yamamoto; Danilo De Simone; Takahiro Kozawa; Stefan De Gendt 出版日期：2018
求助人	litaozhou 在 2026-02-26 22:49:30 发布自上海，悬赏 20 积分
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