| 标题 |
A Modified Bosch Process of SF6/C4F8/O2 ICP-RIE Si Etching 相关领域
材料科学
蚀刻(微加工)
过程(计算)
反应离子刻蚀
工程物理
纳米技术
冶金
计算机科学
工程类
图层(电子)
操作系统
|
| 网址 |
求助人暂未提供
|
| DOI |
暂未提供,该求助的时间将会延长,查看原因?
|
| 其它 | Yi Wang, Luhua Chen |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成,仅限求助人或该文件上传人下载。 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)