| 标题 |
Plasma Exposure Behavior of Yttrium Oxide Film Formed by Aerosol Deposition Method |
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing 作者:Hiroaki Ashizawa; Masakatsu Kiyohara 出版日期:2017-09-15 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)