| 标题 |
MBMW technical requirements for enabling high-NA era mask fabrication |
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| DOI |
10.1117/12.3088709
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期刊:Advanced Lithography 作者:Sungwoo Jang; S. Choo; Hanyoung Park; S. Hwang; Yun Lim Jung; et al 出版日期:2026-04-08 |
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(2025-6-4)