Optimization of Growth Temperature and V/III Ratio toward High-Quality Si-Doped Aluminum Nitride Thin Films on Sapphire

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标题	Optimization of Growth Temperature and V/III Ratio toward High-Quality Si-Doped Aluminum Nitride Thin Films on Sapphire
网址	https://doi.org/10.1021/acs.cgd.4c00685
DOI	10.1021/acs.cgd.4c00685 doi
其它	期刊：Crystal Growth & Design 作者：Haicheng Cao; Mingtao Nong; Xiao Tang; Che‐Hao Liao; Glen Isaac Maciel García; et al 出版日期：2024-09-12
求助人	自己在 2026-07-24 19:16:51 发布自吉林，悬赏 10 积分
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