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  Preparation of High-Quality Low-Temperature PECVD Silicon Nitride Films: Effect of NH3 Precursor on Film Properties and RF Response Mechanism 相关领域
材料科学
氮化硅
等离子体增强化学气相沉积
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期刊：Coatings 作者：Zhen Tang; Peng Yu; Yanli Qi; Zhuo Wang; Jianping Ning; et al 出版日期：2026-06-21 |
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