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Atomic layer deposition and selective etching of ruthenium for area-selective deposition: Temperature dependence and supercycle design
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网址
https://doi.org/10.1116/6.0000912
AI链接 tue.nl tue.nl tue.nldoi.org
DOI
10.1116/6.0000912 doi
其它 期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films
作者：Martijn F. J. Vos; Sonali N. Chopra; John G. Ekerdt; Sumit Agarwal; W. M. M. Kessels; et al
出版日期：2021-04-09
求助人
打球不过网 在 2025-10-28 15:40:12 发布自陕西，悬赏 10 积分
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