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Research of In0.48Ga0.52P/GaAs Heterojunction Interface Properties Improvement Deposited by MOCVD
网址
https://doi.org/10.1002/crat.202400198
DOI
10.1002/crat.202400198 doi
其它 期刊：Crystal Research and Technology
作者：D.C.H. Yu; Junjie Qiu; Kang Liang; Yicang Huang; Shen Wei
出版日期：2025-01-23
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十个勤天 在 2026-08-20 13:44:56 发布自江苏，悬赏 10 积分
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