Silicon dioxide mask by plasma enhanced atomic layer deposition in focused ion beam lithography

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标题	Silicon dioxide mask by plasma enhanced atomic layer deposition in focused ion beam lithography
网址	http://iopscience.iop.org/article/10.1088/1361-6528/aa5650
DOI	10.1088/1361-6528/aa5650 doi
其它	期刊：Nanotechnology 作者：Zhengjun Liu; Ali Shah; Tapani Alasaarela; Nikolai Chekurov; Hele Savin; Ilkka Tittonen 出版日期：2017-01-03
求助人	自然的翠丝在 2026-04-20 14:51:39 发布自中国，悬赏 10 积分
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