High-rate magnetron deposition of CuOx films in the metallic mode enhanced by radiofrequency inductively coupled plasma source

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标题	High-rate magnetron deposition of CuOx films in the metallic mode enhanced by radiofrequency inductively coupled plasma source 相关领域溅射沉积沉积（地质）感应耦合等离子体腔磁控管材料科学溅射分析化学（期刊）等离子体等离子体原子发射光谱薄膜金属光电子学化学冶金纳米技术环境化学物理生物古生物学量子力学沉积物
网址	https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2022.111551
DOI	10.1016/j.vacuum.2022.111551 doi
其它	期刊：Vacuum 作者：Dmitrii V. Sidelev; Ekaterina D. Voronina; V.A. Grudinin 出版日期：2022-10-04
求助人	端庄冬寒在 2025-11-10 12:17:53 发布自中国，悬赏 10 积分
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