| 标题 |
 Atomic layer etching of Al2O3 with NF3 plasma fluorination and trimethylaluminum ligand exchange 相关领域
X射线光电子能谱
化学
氟
分析化学（期刊）
蚀刻（微加工）
原子层沉积
大气温度范围
等离子体
图层（电子）
配体（生物化学）
化学工程
有机化学
生物化学
物理
受体
量子力学
气象学
工程类
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成，仅限求助人或该文件上传人下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
无极微光
极限001
invisight
DW
null
乐空思
v0id
酸味yjm
子安
花开富贵
复杂珊
Youdge
Elsevier大王
xing_xing
kaio_escolar
aaaa
maxiaole
真没招了
GingerF
zhixiang
皖公网安备34019202002308
