Investigation of surface reactions of etched SiN films using HF/PF3 gas mixture plasma under cryogenic conditions via in-line XPS: The role of ammonium salts in etch rate enhancement

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标题	[高分] Investigation of surface reactions of etched SiN films using HF/PF3 gas mixture plasma under cryogenic conditions via in-line XPS: The role of ammonium salts in etch rate enhancement
网址	https://pubs.aip.org/avs/jva/article-pdf/doi/10.1116/6.00052...
DOI	10.1116/6.0005201 doi
其它	期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A 作者：Junji Kataoka; Yuma Kato; Daiki Iino; Kazuaki Kurihara; Hiroyuki Fukumizu 出版日期：2026-02-17
求助人	柴火烧叽在 2026-03-21 17:24:06 发布自湖北，悬赏 50 积分
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