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 Functionalization of Si3N4 with an aldehyde inhibitor for area selective deposition of HfO2 and SiO2 相关领域
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期刊：Journal of Materials Chemistry C 作者：Byungchan Lee; Seungwon Shim; Ngoc Le Trinh; Aravind H. Patil; Chi Thang Nguyen; et al 出版日期：2025 |
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