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作者
Byungchan Lee,Seungwon Shim,Ngoc Le Trinh,Aravind H. Patil,Chi Thang Nguyen,Taehoon Cheon,Soo‐Hyun Kim,Youngho Kang,Han‐Bo‐Ram Lee
摘要
Area selective deposition of HfO 2 and SiO 2 using BAD inhibitor.
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