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 Dominant factors study on roughness and material removal rate in electrochemical mechanical polishing of tungsten carbide surface 相关领域
抛光
碳化钨
材料科学
表面粗糙度
化学机械平面化
机械加工
冶金
电解质
表面光洁度
碳化物
碳化硅
钨
电化学加工
电化学
复合材料
表面处理
硬质合金
过程（计算）
模具（集成电路）
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| 其它 |
期刊：The International Journal of Advanced Manufacturing Technology 作者：Weibin Tang; Xiangbo He; Huiming Feng; Huiyu Xie; An Wei; et al 出版日期：2026-01-30 |
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