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  Assessing neutral transport mechanisms in aspect ratio dependent etching by means of experiments and multiscale plasma modeling 通过实验和多尺度等离子体模拟评估长宽比相关蚀刻中的中性输运机制
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期刊：Plasma Sources Science and Technology 作者：Patrick Vanraes; Syam Parayil Venugopalan; Matthieu Besemer; Annemie Bogaerts 出版日期：2023-06-01 |
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