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 Evaluation of Si thin film formed from Si0.7Ge0.3/Si/Si0.7Ge0.3-stacked layers with CF4/H2 plasma for Si-nanosheet formation toward GAA transistor application |
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期刊：Applied Physics Letters 作者：Kotaro Ozaki; Yusuke Imai; Yuki Imai; Takayoshi Tsutsumi; Kenji Ishikawa; et al 出版日期：2026 |
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