| 标题 |
Characterization of striae in ULE for EUVL optics and masks 相关领域
抛光
光掩模
极紫外光刻
表征(材料科学)
平版印刷术
表面粗糙度
光学
材料科学
表面光洁度
计算机科学
光电子学
纳米技术
物理
复合材料
抵抗
图层(电子)
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10.1117/12.656355
doi
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| 其它 |
期刊:SPIE Advanced Lithography 作者:W. Rosch; L. Beall; John E. Maxon; R. Sabia; R. Sell 出版日期:2006-03-10 |
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