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High‐Rate Growth of Single‐Crystalline Diamond (100) Films by Hot‐Filament Chemical Vapor Deposition with Tantalum Filaments at 3000 °C 3000℃下钽丝热丝化学气相沉积高速生长单晶金刚石(100)薄膜
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化学气相沉积
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期刊:physica status solidi (a) 作者:Taira Tabakoya; Shohei Kanada; Yusuke Wakui; Yue Takamori; Tatsuki Yamada; et al 出版日期:2019-07-06 |
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