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 Dielectric barrier characteristics of Si-rich silicon nitride films deposited by plasma enhanced atomic layer deposition 相关领域
等离子体增强化学气相沉积
原子层沉积
材料科学
氮化硅
图层（电子）
硅
电介质
光电子学
扩散阻挡层
氮化物
薄膜
化学气相沉积
高-κ电介质
纳米技术
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期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Hwanwoo Kim; Hyoseok Song; Changhee Shin; Kangsoo Kim; Woochool Jang; et al 出版日期：2017-01-01 |
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