Amorphous SiCx:H and SiCxNy:H Films Obtained from Hexamethyldisilane Vapor in Inductively Coupled RF Discharge Plasma

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标题	Amorphous SiCx:H and SiCxNy:H Films Obtained from Hexamethyldisilane Vapor in Inductively Coupled RF Discharge Plasma 在感应耦合射频放电等离子体中由六甲基二硅烷蒸气获得的非晶SiCx：H和SiCxNy：H薄膜相关领域化学感应耦合等离子体无定形固体等离子体分析化学（期刊）环境化学有机化学量子力学物理
网址	https://doi.org/10.1134/s0018143924700565
DOI	10.1134/s0018143924700565 doi
其它	期刊：High Energy Chemistry 作者：M. N. Chagin; Е. N. Ermakova; Vladimir R. Shayapov; V. S. Sulyaeva; Е. А. Максимовский; et al 出版日期：2024-11-01
求助人	danli 在 2025-11-12 00:15:20 发布自海南，悬赏 20 积分
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