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标题
Effect of reactive ion etching–generated sidewall roughness on propagation loss of buried-channel silica waveguides
网址
https://pubs.aip.org/aip/apl/article-pdf/69/15/2178/18522147...
DOI
10.1063/1.117157 doi
其它 期刊：Applied Physics Letters
作者：M. V. Bazylenko; M. Gross; M. Faith
出版日期：2002-07-26
求助人
cyyan 在 2026-09-10 16:47:00 发布自上海，悬赏 10 积分
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