| 标题 |
Mechanism of Thermal Atomic Layer Etching of Hafnium Zirconium Oxide, HfO2 and ZrO2 Using Sequential HF and Acetylacetone Exposures |
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Chemistry of Materials 作者:Troy A. Colleran; Aziz I. Abdulagatov; Jonathan L. Partridge; Andrew S. Cavanagh; Steven M. George 出版日期:2025 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)