| 标题 |
 Atomic Layer Deposition of Al2O3 onto Sn-Doped In2O3: Absence of Self-Limited Adsorption during Initial Growth by Oxygen Diffusion from the Substrate and Band Offset Modification by Fermi Level Pinning in Al2O3 相关领域
X射线光电子能谱
原子层沉积
单层
兴奋剂
基质（水族馆）
溅射沉积
分析化学（期刊）
吸附
材料科学
图层（电子）
沉积（地质）
氢
费米能级
扩散阻挡层
溅射
结晶学
薄膜
化学
化学工程
纳米技术
物理化学
光电子学
电子
古生物学
工程类
地质学
有机化学
物理
沉积物
海洋学
生物
量子力学
色谱法
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Chemistry of Materials 作者：Thorsten J. M. Bayer; André Wachau; Anne Fuchs; Jonas Deuermeier; Andreas Klein 出版日期：2012-11-19 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
GingerF
芽芽
qwer189
学霸业
愉快的真
极限001
pluto
牧青
林狗
Dominic
滕祥
机灵的沂
斯文的白玉
无极微光
其心
DOC_XIONG
Criminology34
ziw
初景
悦耳的怀寒
皖公网安备34019202002308
