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 Effect of composition uniformity in the polymer chain of EUV photoresist on lithographic performance 极紫外光刻胶聚合物链组成均匀性对光刻性能的影响
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期刊： 作者：Eun Kyo Ko; Yoorim Jang; Kwang-Woo Choi; Philjae Kang; Nara Shin; et al 出版日期：2025-04-22 |
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