Etching characteristics of Pb(Zr,Ti)O3, Pt, SiO2and Si3N4in an inductively coupled HBr/Ar plasma

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标题	Etching characteristics of Pb(Zr,Ti)O3, Pt, SiO2and Si3N4in an inductively coupled HBr/Ar plasma
网址	https://doi.org/10.1088/0963-0252/19/4/045020
DOI	10.1088/0963-0252/19/4/045020 doi
其它	期刊：Plasma Sources Science and Technology 作者：Alexander Efremov; Nam Ki Min; Jaehwa Jeong; Youngkeun Kim; Kwang-Ho Kwon 出版日期：2010
求助人	byyyy 在 2026-05-23 16:02:41 发布自陕西，悬赏 10 积分
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