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 Low-Pressure CVD of GeE (E = Te, Se, S) Thin Films from Alkylgermanium Chalcogenolate Precursors and Effect of Deposition Temperature on the Thermoelectric Performance of GeTe 相关领域
材料科学
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期刊：ACS Applied Materials & Interfaces 作者：Fred Robinson; Vikesh Sethi; C.H. de Groot; Andrew L. Hector; Ruomeng Huang; et al 出版日期：2021-10-04 |
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