| 标题 |
Dry Etching of TaN/HfO2 Gate Stack Structure by Cl2/SF6/Ar Inductively Coupled Plasma |
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Japanese Journal of Applied Physics 作者:Myoung Hun Shin; Sung-Woong Na; Nae-Eung Lee; Tae Kwan Oh; Jiyoung Kim; et al 出版日期:2005-07-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)