Inverse Lithography with Adaptive Mask Complexity

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标题	Inverse Lithography with Adaptive Mask Complexity
网址	http://dx.doi.org/10.1109/cstic61820.2024.10531818
DOI	10.1109/cstic61820.2024.10531818 doi
其它	期刊：2024 Conference of Science and Technology for Integrated Circuits (CSTIC) 作者：Xiaoxuan Liu; Dongyong Xu; Fanwenqing Zeng; Yaojun Du; Li Xie; et al 出版日期：2024-03-17
求助人	尊嘟假嘟在 2026-07-25 23:32:30 发布自中国香港，悬赏 10 积分
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